摘要 近年來，我國之設計產業呈蓬勃之發展，並已逐漸成為我國最具實力 與代表性之重點產業之一。然而，反觀我國之設計保護制度，並未能跟得 上設計產業之腳步，相較於各先進國家的設計保護制度顯得相對保守而明 顯不足。有鑑於此，智慧財產局於95 年即開始徵詢業界之修法建議並完 成修法之公聽，目前配合整部專利法之修法已送交立法階段。 本文即是為因應未來施行新法之「設計專利」制度時，對於可能遭遇 之重點議題提出討論，同時亦藉修法之際對現行新式樣專利實體審查基準 重新予以檢視，內容包含幾個主題：「設計定義的修正」、「揭露要件的放 寬」、「專利要件的重新檢視」、「各種申請標的所產生的交互關係」。期望 藉筆者之拙見，對於未來施行新法之設計專利制度能有所助益，並最終能 促使我國未來之設計保護制度更趨完善周全。