在知識經濟與全球化的衝擊下，為鼓勵創新研發與創意發展，智慧財產儼然 成為國家發展與產業競爭力的關鍵，尤其是專利制度之保護與運用。近年來各國 專利訴訟中，已出現使用設計專利做為主要訴訟攻擊標的，例如2011年起蘋果公 司對三星公司所掀起的訴訟戰爭，大家開始注意設計專利的重要性。 我國將「部分設計」納入設計專利保護標的，一方面乃為了鼓勵傳統產業 對於既有資源之創新設計，另一方面為因應國內產業界在成熟期產品開發設計需 求，爰參酌日本意匠法第2條、韓國設計法第2條、歐盟設計法第3條等之部分設 計（partial design）之立法例，以強化設計專利權之保護。而日本意匠法早在1999 年開始實行部分意匠制度，目的為了保護物品之部分具有新穎特徵之創作，防止 第三者僅模仿其部分新穎特徵，使申請人有更周延的設計保護範圍。 因此，為了解兩國在設計專利制度之現況與未來發展趨勢，特別針對兩國 的部分設計審查實務之差異進行比較研究，對於在設計定義、揭露方式、一設計 一申請、主張國際優先權認可、修正、新穎性及創作性之判斷等議題進行比較分 析，以作為未來我國設計專利相關法規及審查基準之修訂參考。