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來源文獻資料
引文資料
題名:
高壓功率電晶體結構之最佳化設計
書刊名:
明新學報
作者:
吳明瑞
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陳啟文
/
李佑仁
/
簡鳳佐
/
涂高維
作者(外文):
Wu, Ming-ray
/
Chen, Chii-wen
/
Lee, Yau-jen
/
Chieh, Feng-tso
/
Tu, Kou-way
出版日期:
2002
卷期:
28
頁次:
頁7-16
主題關鍵詞:
高壓功率電晶體
;
場環
;
崩潰電壓
;
High-voltage power MOS device
;
Guard ring
;
Breakdown voltage
原始連結:
連回原系統網址
相關次數:
被引用次數:期刊(0) 博士論文(0) 專書(0) 專書論文(0)
排除自我引用:0
共同引用:0
點閱:24
期刊論文
1.
Goud, C. Basavana、Bhat, K. N.(1991)。Two-Dimensional Analysis and Design Considerations of High-Voltage Planar Junction Equipped with Field Plate and Guard Ring。IEEE Trans. Electron. Devices,38,1497-1504。
2.
Perugupalli, P.、Trivedi, M.、Shenai, K.、Leong, S. K.(1998)。Modeling and characterization of an 80 V silicon LDMOSFET for emerging RFIC applications。IEEE Trans. Electron Devices,45,1486-1478。
3.
Temple, V. A. K.(1976)。Junction termination extension, a new technique for increasing avalanche breakdown voltage and controlling surface electric fields in P-N junctions。IEEE Trans. Electron Devices,23,950-955。
4.
Temple, V. A. K.、Adler, M. S.(1975)。Calculation of the diffusion curvature related avalanche breakdown in high voltage planar P-N junctions。IEEE Trans. Electron Devices,22,910-916。
5.
Hu, C.、Chi, M. H.、Patel, V. M.(1984)。Optimum design of power MOSFET's。IEEE Trans. Electron Devices,31,1693-1700。
會議論文
1.
Temple, V. A. K.、Love, R. P.(1978)。A 600-V MOSFET with near ideal On-resistance。IEDM tech. Dig.。
圖書
1.
Baliga, B. J.(1996)。Power Semiconductor Devices。
2.
TMA MEDICI(1999)。Two-dimensional device simulation program。
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