:::

詳目顯示

回上一頁
題名:臺日設計專利權之侵權判斷的差異探討--以部分設計為例
書刊名:智慧財產權月刊
作者:呂正和魏鴻麟
作者(外文):Lu, Cheng-herWay, Hong-lin
出版日期:2019
卷期:241
頁次:頁38-64
主題關鍵詞:設計專利意匠專利侵權近似要部主張設計之部分
原始連結:連回原系統網址new window
相關次數:
  • 被引用次數被引用次數:期刊(0) 博士論文(0) 專書(0) 專書論文(0)
  • 排除自我引用排除自我引用:0
  • 共同引用共同引用:1
  • 點閱點閱:2
期刊論文
1.黃文儀(20120700)。日本設計專利近似之判斷(上)。智慧財產權月刊,163,103-130。new window  延伸查詢new window
其他
1.May,Wen, Philip C. F.(2011)。蘋果與三星互告事件觀察,http://iknow.stpi.narl.org.tw/Post/Read.aspx?PostID=6175。  new window
2.經濟產業省。意匠権の侵害とは,http://www.meti.go.jp/policy/ipr/infringe/about/design.html。  延伸查詢new window
 
 
 
 
第一頁 上一頁 下一頁 最後一頁 top