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引文資料
題名:
臺日設計專利權之侵權判斷的差異探討--以部分設計為例
書刊名:
智慧財產權月刊
作者:
呂正和
/
魏鴻麟
作者(外文):
Lu, Cheng-her
/
Way, Hong-lin
出版日期:
2019
卷期:
241
頁次:
頁38-64
主題關鍵詞:
設計專利
;
意匠專利
;
侵權
;
近似
;
要部
;
主張設計之部分
原始連結:
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相關次數:
被引用次數:期刊(0) 博士論文(0) 專書(0) 專書論文(0)
排除自我引用:0
共同引用:
1
點閱:2
期刊論文
1.
黃文儀(20120700)。日本設計專利近似之判斷(上)。智慧財產權月刊,163,103-130。
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其他
1.
May,Wen, Philip C. F.(2011)。蘋果與三星互告事件觀察,http://iknow.stpi.narl.org.tw/Post/Read.aspx?PostID=6175。
2.
經濟產業省。意匠権の侵害とは,http://www.meti.go.jp/policy/ipr/infringe/about/design.html。
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