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題名:專利審查實務發展與變革--新型篇
書刊名:智慧財產權月刊
作者:劉正旭陳志弘
作者(外文):Liu, Cheng-hsuChen, Chih-hung
出版日期:2024
卷期:305
頁次:頁109-120
主題關鍵詞:形式審查專利要件一案兩請標的適格性更正技術報告Formality examinationPatentabilityTwo applications for same creationEligibilityPost-grant amendmentTechnical evaluation report
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新型專利制度創設目的,主要係保護物品之創作,該制度與發明及設計專利
間,規範雖各有不同,然三者皆以驅動科技創新為目的,共同支撐起專利保護之
完善架構,彼此具有相輔相成關係,以期全面保障申請人權益。本文回顧專利法
公布 80 週年以來,審查實務的重要發展與變革,包括介紹申請案實體審查時期之
審查要件及保護標的等,其次介紹申請案形式審查制度之成因及其影響,此為該
制度迄今最為重大之變革,對此,本文簡介審查要件、標的適格性、更正制度相
關實務、一案兩請權利接續等,說明立法意旨及其實務特點,並概述新型專利技
術報告之作用及其內容,藉由上述導覽整體制度沿革,期可供外界掌握實務脈動。
 
 
 
 
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